大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于立式管道泵技术难点的问题，于是小编就整理了1个相关介绍立式管道泵技术难点的解答，让我们一起看看吧。
中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？
你好，光刻机是芯片制造的核心设备，在工业领域，最难的不是芯片设计，而是芯片制造，用的就是光刻机。
一、首先来说说：到底光刻机有多难搞呢？
有一位美国工程师表示，光刻机的一个零件调整多达数十年之久。
目前荷兰的ASML最先进的光刻机，集成了大量的来自德国美国日本等最先进的技术，比如光刻机的光源设备主要来自美国的Cymer公司，镜头则来自于德国蔡司。
- 按照业内人士的说法，也就是说光刻机的零件几乎都是定制的。其中超过90%是使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数可能会达到百万次以上的。
用光刻机做出一个芯片大概需要3000工序，由于每一步都是“硅上雕花”，有一定的失败率，三千步下来，要让最终成品合格率高于95%，每一步的失败率必须小于0.001%。
二、光刻机的核心问题：不是你想买，就能买得到的
目前全世界能够生产高端光刻机的只有三家，分别是荷兰 ASML，日本的尼康和佳能。
关键是在新一代的光刻机技术研发烧钱太大，尼康和尼佳已经都放弃了。
也就是说，到了最后，荷兰ASML一家独占了全球光刻机市场的85%，利润的107%。
其实在2012年，荷兰ASML研究最新光刻机没钱也想放弃的，结果等着光刻机续命的企业，比如intel、三星、台积电从家里拿来大几十亿美元支持 ASML，最终造出了能够制造7nm制程芯片的光刻机，每台还能售卖1亿美元。
一亿美元的确很贵，可是事关卡脖子，我们也不差1亿吧，关键是有1亿也是买不到，才是最大的问题。
- 那是因为1996年，美国挑头签署的《瓦森纳协定》。瓦森纳协定本名叫“瓦森纳安排机制”。
这个协议简单的解释就是美国带着他的小伙伴们不把技术卖给其他国家，其中中国就是没被安排到了。
因此，属于荷兰ASML股东的台积电想要买几台就几台，但是大陆的中芯国际据说想要订一台7nm光刻机，到现在还没有能拿到出口许可证，说白了就是美国在作祟的。
三、中国可以生产光刻机吗？可以的
目前中国最牛的光刻机生产商就是上海微电子装备公司，他可以做到最精密的加工制程是90nm，这个就是相当于2004年最新款的intel 奔腾四处理器的水平。
- 虽然，这个90nm与荷兰AsML的7nm制程真的是千差万别的，不过我们也还是不能小瞧这个90nm的制程能力。
因为上海微电子的光刻机已经能够足够驱动基础的国防和工业，哪怕是面对“所有进口光刻机都瞬间停止工作”的这种极端情况下，中国仍然有芯片可用。
- 在这种情况下，即使美国采取各种手段来实施“断供”也还是达不到彻底的打压效果，最大的作用其实就是双方的“谈判筹码”。
当然，光刻机的差距虽然很大，我们也正在举国之力实施科技兴国来攻破这道防线，只是要有一定的时间周期而已。
总之，光刻机的难是集合了技术工艺、历史原因以及技术差距等造成的，当前的局面对我们而言只是被动，并不代表可以被完全打压的，我们要相信中国芯的这个痛点早晚都要被攻破的，这就是我的观点，谢谢。
这是最大的痛点，飞机大炮都能造，但造不出光刻机！
荷兰人：我把图纸公开出来你们都造不出来！
这个重180吨的巨物这么难造，中芯国际就算是加钱都无法将它拿到手，难道是担心害怕？中国一旦拿到光刻机然后复制出来一个一摸一样的？就像华强北的手机，码头用来吊集装箱的港机，还有打洞的盾构机，还有航母中国买了一个二手的都给它复制出来了！
那么荷兰人说的光刻机就算图纸公开别人都造不出来，这个是不是在吹嘘自己？那么他放出这样的狠话到底是有什么难的地方？
因为光刻机是各国的最高技术的整合和全球科技巨头的钱续航搞出来的，光刻机的光源设备是美国的，还有德国提供的机械工艺，还有世界级的蔡司镜头，光学技术是日本的、制造分配技术是三星台积电和英特尔一起提供的、轴承是瑞典的、阀件是法国的等等东西，集合世界各地，这些供应商同时也是股东！这回能想象到这些国家是有多惧怕华为了，还有这些国家是多惧怕我国！
现在我国上海微电子也制造出来光刻机了，但是工艺还在90nm，相比7nm、5nm还是差距很大的，所以荷兰不敢将光刻机卖出来，也真的不敢将光刻机的图纸拿出来！
一旦拿出来或者一旦售卖给我国，就等于用肉在喂老虎，将华为养起来了，我国科技必将引领全球第一，世界格局也将有所改变，美国当老大哥日子会一去不复返，所以美国要打压华为，越打压说明美国越害怕！
这里是年燕将门，你的疑惑我来解答。
题主所提问题——中国芯片最大痛点：光刻机为啥这么难？准确的说应该是高端光刻机为什么那么难。虽然前些日子有了上海微电子量产28nm芯片的消息，但比起ASML的5nm芯片技术来说我们依旧处于一个相对来说比较落后的局面。
那么，为什么高端光刻机这么难，我们14亿人民就造不出吗？
其实，光刻机可以说是世界科技工业科技的产物，ASML就是那个整合商。他所用的零件都是世界最顶级的，比如蔡司的镜头，美国的光电技术。更有说法之处，ASML的光刻机的一个零件需要打磨10年！由此可以看出，制造高端光刻机不是有钱就可以的。
那么有人会问，那我们国家自己做整合商不行吗？
答案是不行。为什么？
其实ASML之所以能够做整合商，首先是给他提供技术硬件支持的，很多都是它的股东，他们提供技术给ASML，以保证能在最快的时间拿到ASML的光刻机，比如台积电，三星，英特尔等。而这些外企会提供技术和零件给中国这些和他们没有利益关系的公司吗？显然是不会。所以你可以看到，我们的民族产业走上了自主研发的道路，即使动用了全国力量，也依旧只能做出落后几代的产品。
当然，ASML优先给股东供货，想中芯国际这种没有利益关系的供货总是排在最后面的。2018年向ASML订购的7nm光刻机至今没有交付，而台积电仅在2019年就交付了13台光刻机！所以在光刻机上我们是给限制的死死的，这是美国为何能自信制裁华为的原因。
就目前来说要我们制作高端光刻机还不太可能，但是在上海微电宣布研发出28nm的光刻机之后，预示着我们国家的光刻机正逐步走上正轨。中国DUV和EUV是同时研发的，不存在任何继承关系，哈工大的EUV光源也已经研发成功了，华卓精科的双工件台，国旺的光学镜头都有突破，造出EUV光刻机，就差整合了。
目前最先进的光刻机没有哪个国家能够凭借一国之力造出来，荷兰也不行。
纵观全球半导体行业最发达当属美国、日本，但这两个国家也没有单独研制出光刻机的实力，欧洲半导体行业权威专家直接表示，想要研制出光刻机就必须集结多个国家的优势，其中就包括日本提供特殊复合材料、德国提供蔡司镜头技术设备、瑞典的工业精密机床技术以及美国提供控制软件等，中国目前想要造出来世界领先的光刻机，就要在光刻机所有的技术领域击败日本，德国瑞典，美国等这个零配件供给国，因为美国的原因，这些零件目前不可能被进口，所以荷兰敢嚣张的说，就算拿到图纸，你也造不出光刻机。
光刻机又称掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是利用紫外线通过模板去除晶圆表面的保护膜的设备，目前最好的光刻机是荷兰ASML生产的EUV光刻机。
光刻机制造难度极高，基本代表人类科学技术、工业制造的最高成果。其中难度最大的是镜头和光源。
光刻机的镜头采用蔡司技术，蔡司是德国历史悠久的光学仪器厂商，其产品向来是“高贵”的代名词。同样的一个镜片，不同工人打磨，光洁度相差十倍。镜片材质均匀，更需要几十年甚至上百年的技术沉淀。光学镜片的进步是异常艰难的。
光刻机的光源使用波长极短的极紫外光，该技术是使用激光产生等离子源产生13nm的紫外波长。这种光源工作在真空环境下，产生紫外波长，然后由光学聚焦形成光束，光束经由用于扫描图形的反射掩膜版反射，由于极紫外光的固有特性，产生极紫外光的方式十分低效。能源转换效率只有 0.02% 左右。
还有光源曝光头、真空管路系统、七路系统、真空泵等等全都是当今世界上最精密的仪器，要把这些精密仪器组合在一起而且误差接近于0，其难度可想而知。
光刻机制作芯片的工作，比米粒上刻清明上河图还要难，而且还要在真空环境中，移动状态下。
最要命的是光刻机设备和零部件对我国是封锁的。也就是制作一台光刻机，要全世界高精端设备公司最好的产品组合在一起，如果一个国家要制造出全部零部件，目前看不可能。
到此，以上就是小编对于立式管道泵技术难点的问题就介绍到这了，希望介绍关于立式管道泵技术难点的1点解答对大家有用。